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    凱澤金屬現(xiàn)貨供應(yīng)TA1/TA2純鈦絲 鈦鋁靶 鎳靶

    發(fā)布時間:2022-08-13 09:47:00 瀏覽次數(shù) :

    一、產(chǎn)品名稱:純鈦絲

    鈦絲產(chǎn)品的牌號、狀態(tài)和規(guī)格應(yīng)符合表1的規(guī)定。

    表1

    牌號狀態(tài)直徑 mm
    TA1、TA1ELI、 TA2、TA2ELI、TA3、TA3ELI、 TA4、TA7、TA9、 TA10、TC1、TC3退火狀態(tài)(M)加工狀態(tài)(Y或R)0.1-7.0
    TC41.6-7.0
    注:鈦絲材的用途和供應(yīng)狀態(tài)應(yīng)在合同中注明,未注明時一律按焊絲、加工狀態(tài)(Y或R)供應(yīng)。

    鈦焊絲的化學(xué)成份應(yīng)符合表2的規(guī)定。

    表2

    牌號化學(xué)成分
    主要成分,%雜質(zhì)元素,%;不大于
    TiAlVSnPbMoNiFeOCNH
    TA0------0.100.100.050.030.012
    TA0EL I------0.100.100.030.020.008
    TA1------0.200.150.050.030.012
    TA1EL I------0.200.100.050.030.008
    TA2------0.250.200.050.050.012
    TA2EL I------0.250.180.050.040.008
    TA3------0.350.250.050.050.012
    TA3EL I------0.300.250.050.050.008
    TA42.0-3.3-----0.300.150.050.040.012
    TA74.0-6.0-2.0-3.0---0.450.150.050.050.012
    TA9---0.12-0.25--0.200.180.050.030.012
    TA10----0.2-0.40.6-0.90.250.200.050.030.012
    TC33.5-4.53.5-4.5----0.250.150.050.050.012
    TC43.5-4.53.5-4.5----0.250.180.050.050.012

    絲材直徑允許偏差應(yīng)符合表3的規(guī)定

    表3

       mm

    直徑0.1-0.2>0.2-0.5>0.5-1.0>1.0-2.0>2.0-4.0>4.0-7.0
    允許偏差-0.025-0.04-0.06-0.08-0.10-0.14
    注:經(jīng)供需雙方協(xié)商,可供應(yīng)其它規(guī)格或允許偏差的絲材。

    結(jié)構(gòu)件絲退火狀態(tài)室溫力力學(xué)性能應(yīng)符合表4的規(guī)定

    表4 mm

    牌號室溫力學(xué)性能,不小于牌號室溫力學(xué)性能,不小于
    抗拉強(qiáng)度 σb,MPa伸長率 δ,%抗拉強(qiáng)度 σb,MPa伸長率 δ,%
    TA028020TA354015
    TA137018TC489510
    TA244015



    鈦絲


    二、產(chǎn)品名稱:鈦鋁靶

    靶材的主要指標(biāo)之一是密度,靶材的純度對薄膜性能影響較大,更是在靶材的原先的技術(shù)工藝中減少靶材固體中的氣孔,有效提高了濺射薄膜性能,并且影響了薄膜的光學(xué)和電學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜性能越好。 靶材通常為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小從微米到毫米量級。晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快,而晶粒尺寸相差較小的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。 

    鈦鋁靶參數(shù)

    1、表面:光亮,酸洗面

    2、牌號:TiLv80:20,TA0,TA1,TA2,TC4

    3、純度:99.95%

    4、密度:4.51g/cm3

    5、加工范圍:按客戶要求

    6、規(guī)格:可根據(jù)客戶要求定做生產(chǎn)。 

    7、應(yīng)用領(lǐng)域:鈦鋁靶廣泛應(yīng)用于太陽能,平板顯示,玻璃及裝飾鍍膜,石油化工,真空制鹽,氯堿工業(yè),制藥,精細(xì)化工,電解,電鍍,海水淡化、航空航天等行業(yè)。

    鈦鋁靶

    三、產(chǎn)品名稱:鎳靶

    牌號:N6, N4

    用途:鎳靶用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業(yè)等。

    鎳靶

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