20世紀90年代以來靶材已蓬勃發展成為一個有經驗化產業，中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術用來沉積生長各種薄膜，而靶材是制作薄膜的關...

高純度鈦濺射靶材有各種形式（鈦圓靶，鈦板靶，鈦柱靶，鈦管靶，鈦靶材定制-鈦靶材制作），純度分別（99.2％-99.7％，99.97％-99.98％，> 99.99％，99.995％）。我們專門生產具有最高密度和最小平均晶粒尺寸的高...

產品名稱：鈦合金鍛件 TC4鈦鍛件 鈦合金環 鈦餅 鈦加工件 鍛件類型：鈦塊,鈦環,鈦餅,鈦異形件鍛造材質：國標TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 TC18 TC6 ;美標GR1 GR2 GR5 GR12生產標準：國標...

名稱：TA1鈦塊、鈦光板、TC4鈦合金塊、鈦鍛件、鈦合金鍛件材質：TA0、TA1、TA2、TA3、TA9、TC4、GR1、GR2等。規格：厚度*寬度*長度 （4.1~60.0）*（400~3000）*（1000~4000） 熱軋（0.3~4.0）*（40...

鈦絲產品的牌號、狀態和規格應符合表1的規定。表1牌號狀態直徑 mmTA1、TA1ELI、 TA2、TA2ELI、TA3、TA3ELI、 TA4、TA7、TA9、 TA10、TC1、TC3退火狀態（M）加工狀態（Y或R）0.1-7.0...

名稱：鈦鋁靶、鈦鋁靶材、鈦鋁平面靶、高純鈦鋁靶牌號：TiAl規格及包裝：1.5μm 2.6μm 5μm -400目 300目 或根據客戶要求生產。鈦鋁靶特性：產品具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好...

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號：N6、N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。...

產品名稱：702鋯靶、705高純鋯靶、鋯塊、鋯多弧靶 分類：形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材應用領域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光...

名稱：鉻靶材、鉻多弧靶、鉻平面靶、鉻旋轉靶、鉻塊牌號：Gr用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。...

產品名稱：鈦靶塊、TA1鈦圓靶、高純度濺射鈦合金靶材主要用途：鈦濺射靶應用于裝飾和功能 鍍膜工業、平面顯示工業、光數據存儲工業 （光盤工業）光通訊工業、玻璃鍍膜（建筑 玻璃和汽...

鈦法蘭又叫鈦法蘭盤或突緣。使管子與管子相互連接的零件，連接于管端。鈦法蘭上有孔眼，可穿螺栓，使兩鈦法蘭緊連。鈦法蘭間用襯墊密封。鈦法蘭管件(flanged pipe fittings)指帶...

1、規格、牌號產品名稱規格（mm）狀態牌 號執行標準鈦及鈦合金加工件外徑(100～800mm) 內徑(40～100mm)Χ高度 按圖紙/客戶要求加工熱鍛、機械加工TA1、TA2、TA7、TA9、TA1...

鈦絲產品的牌號、狀態和規格應符合表1的規定。表1牌號狀態直徑 mmTA1、TA1ELI、 TA2、TA2ELI、TA3、TA3ELI、 TA4、TA7、TA9、 TA10、TC1、TC3退火狀態（M）加工狀態（Y或R）0.1-7.0...

產品名稱：N6鎳管靶 鎳旋轉靶材產 地：陜西寶雞材 質：Ni純 度：99.99%晶 粒 度：<100um規格：可以按照用戶需要定制執行標準：國標，美標應用領域：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電...

產品名稱：真空鍍膜鈦鋯靶、鈦鋯合金靶材材 質：Ti、Zr晶粒度：<100um產品規格：根據用戶需要進行定制，來樣加工，來圖加工。工藝：熱軋，冷軋，堿洗，剪切而成。應用領域：航天航空、原子能反應...

產品名稱：99.99%高純高密鉻靶 產 地：陜西寶雞材 質：Cr純 度：99.99%晶 粒 度：<100um應用領域：廣泛應用于電子半導體工業鍍膜、平面顯示鍍膜、光數據、光存儲鍍膜、光伏太陽能表面鍍...

產品名稱：TA1鈦靶、TA2鈦靶、鈦靶材材 質：Ti純 度：99.9%-99.99%牌號：TA1、TA2晶 粒 度：<100um規格：可以按照用戶需要定制應用領域：適用電子、五金、鐘表、眼鏡、首飾、刀具、模具、...

產品名稱高純度靶材尺寸1.圓形靶：?30--2000mm，厚度3.0mm--300mm； 2.板托：長度：200-500mm寬度：100-230mm厚度：3--40mm 3.靶材：直徑：30-200mm厚度：5-20mm長度：500-2000mm 4.可...

執行標準：國標-HG20592 、美標-ANSI B16.5 、日標JISB2220、德標-DIN2627-2628、英標BS、俄標.材質牌號：TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 (GR1,GR2,GR5,Gr7，GR9) 生產工藝：鍛造用途：鈦法蘭...

1、牌號、標準、狀態、規格、工藝牌號：TA1、TA2、TC4、TC11、TA15、TA10、TA18、TC21等執行標準：AMS4928、GB/T2965、ASTM-B348、ASTM-B381、GB/T16598形狀：鈦環、異頸環(也可...

TC4鈦方塊,鈦合金鍛件執行標準：GB/T16598、ASTM B381、AMS4928等主要牌號： TC4 (GR5)規格：(50~1500) x (50~1200) x L <4000mm質量管理：ISO9001:2015,AS9100C宇航標準質量管理體...

執行標準：國標-HG20592 、美標-ANSI B16.5 、日標JISB2220、德標-DIN2627-2628、英標BS、俄標.材質牌號：TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 (GR1,GR2,GR5,Gr7，GR9) 生產工藝：鍛造用途：鈦法蘭...

名稱：鉻靶材、鉻多弧靶、鉻平面靶、鉻旋轉靶、鉻塊牌號：Gr用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。...

產品名稱：99.99%高純高密鉻靶 產 地：陜西寶雞材 質：Cr純 度：99.99%晶 粒 度：<100um應用領域：廣泛應用于電子半導體工業鍍膜、平面顯示鍍膜、光數據、光存儲鍍膜、光伏太陽能表面鍍...

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號：N6、N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。...

產品名稱：TA1(GR1)鈦餅,鈦靶塊主要用途：鈦濺射靶應用于裝飾和功能 鍍膜工業、平面顯示工業、光數據存儲工業 （光盤工業）光通訊工業、玻璃鍍膜（建筑 玻璃和汽車玻璃）工業等行業。執...

名稱：鈦方塊、鈦塊執行標準：GB/T-16598、ASTM B381、AMS4928 GB/T-25137材質牌號：TA1 TA2 TA9 TA10 TC4 (GR1,GR2,GR5,Gr7，GR9) 生產工藝：鍛造尺寸規格：50-1500* 50-2000* L用途...

產品名稱：濺射真空鍍膜高純鈦靶、鈦靶材產地：陜西寶雞材 質：Ti純 度：99.95%密 度：≥4.51g/cm3表 面：車光、倒角。表面清潔光滑，無起皮，氣孔，裂紋等缺陷。規格：可根據用戶需要定制產品...

產品名稱：TA1鈦靶、TA2鈦靶、鈦靶材材 質：Ti純 度：99.9%-99.99%牌號：TA1、TA2晶 粒 度：<100um規格：可以按照用戶需要定制應用領域：適用電子、五金、鐘表、眼鏡、首飾、刀具、模具、...

材質：TA1　TA2　TC4　Gr1 Gr2　Gr5 TA10 TA15規格：φ0.2---φ7.0 分類：盤絲、直絲/光亮面、酸洗面執行標準：GB／T 3620、GB／T 3623、ASTM B863 鈦及鈦合金根據性能的不同，可制備出不...

鋯靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等...

濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等。亦可應用于玻璃鍍膜領域，還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品...

名稱：鈦鋁靶、鈦鋁靶材、鈦鋁平面靶、高純鈦鋁靶牌號：TiAl規格及包裝：1.5μm 2.6μm 5μm -400目 300目 或根據客戶要求生產。鈦鋁靶特性：產品具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好...

品名：鋯靶 、鋯靶管、鋯靶板、鋯旋轉靶牌號：HZr-01 產地：寶雞鋯含量≥：99.6（%） 雜質含量：0.3（%） 重量：不等（kg/塊）規格：100*40 100*45 用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄...

名稱：鉻靶材、鉻多弧靶、鉻平面靶、鉻旋轉靶、鉻塊牌號：Gr用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。...

1、規格、牌號產品名稱規格（mm）狀態牌 號執行標準鈦及鈦合金加工件外徑(100～800mm) 內徑(40～100mm)Χ高度 按圖紙/客戶要求加工熱鍛、機械加工TA1、TA2、TA7、TA9、TA1...