TiZr鈦鋯合金靶

產(chǎn)品名稱：鋯靶材，鋯多弧靶 ，鋯塊牌號：R60702、R60704、R60705執(zhí)行標準：GB/T8769-2010用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)... 【詳情】

產(chǎn)品名稱：純鋯靶材、鋯圓靶、鋯板靶、鋯管靶牌號：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產(chǎn)工藝：熱軋+冷軋+表面清洗+機加形狀：板靶/圓靶/管靶應用行業(yè)：鋯具有熔點高，密度適... 【詳情】

1、定義TA1純鈦靶管是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA1（工業(yè)純鈦） 為基礎材料，通過二次提純和精密加工制成的空心圓柱形濺射靶材。其純度通過特殊工藝提升 99.9%（3N級） 以上，... 【詳情】

鈦靶板（平面靶）憑借其大面積成膜能力與高純度特性，成為半導體、光學及工業(yè)涂層領域的核心材料。相較于鈦管靶，其邊緣損耗較高但兼容性更廣；與鈦合金靶相比，純度更高但需依賴復合背板提升散熱效率。選購時需嚴格把控純度、微觀結(jié)構(gòu)及供應商工藝能力，使用中需優(yōu)化濺射參數(shù)與維護流程，以平衡鍍膜質(zhì)量與成本效益... 【詳情】

TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性，成為工業(yè)防腐與裝飾鍍層的經(jīng)濟型選擇。相較于高純鈦靶管，其薄膜均勻性和耐溫性稍遜，但成本優(yōu)勢顯著；與TA2鈦靶管相比，雜質(zhì)控制更優(yōu)，適合對鍍層質(zhì)量要求稍高的場景。選購時需重點關(guān)注Fe、O雜質(zhì)含量及幾何精度，應用中需控制濺射參數(shù)以避免膜層缺陷... 【詳情】

異形鈦靶材通過定制化設計解決了復雜結(jié)構(gòu)鍍膜的行業(yè)痛點，盡管初期成本與周期較高，但其在材料利用率、鍍膜精度上的優(yōu)勢顯著。選購時需緊密協(xié)同設計與工藝團隊，優(yōu)先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應商，并通過小批量試制驗證可行性。在半導體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領域... 【詳情】