鈦管靶

1、定義TA2純鈦靶是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA2（工業純鈦） 為基礎材料，通過特殊提純工藝加工而成的濺射靶材。TA2鈦的純度通常為 99.2%-99.5%，但通過二次熔煉和精煉可... 【詳情】

1、定義TA1純鈦靶管是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA1（工業純鈦） 為基礎材料，通過二次提純和精密加工制成的空心圓柱形濺射靶材。其純度通過特殊工藝提升 99.9%（3N級） 以上，... 【詳情】

鈦靶板（平面靶）憑借其大面積成膜能力與高純度特性，成為半導體、光學及工業涂層領域的核心材料。相較于鈦管靶，其邊緣損耗較高但兼容性更廣；與鈦合金靶相比，純度更高但需依賴復合背板提升散熱效率。選購時需嚴格把控純度、微觀結構及供應商工藝能力，使用中需優化濺射參數與維護流程，以平衡鍍膜質量與成本效益... 【詳情】

TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性，成為工業防腐與裝飾鍍層的經濟型選擇。相較于高純鈦靶管，其薄膜均勻性和耐溫性稍遜，但成本優勢顯著；與TA2鈦靶管相比，雜質控制更優，適合對鍍層質量要求稍高的場景。選購時需重點關注Fe、O雜質含量及幾何精度，應用中需控制濺射參數以避免膜層缺陷... 【詳情】

異形鈦靶材通過定制化設計解決了復雜結構鍍膜的行業痛點，盡管初期成本與周期較高，但其在材料利用率、鍍膜精度上的優勢顯著。選購時需緊密協同設計與工藝團隊，優先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應商，并通過小批量試制驗證可行性。在半導體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領域... 【詳情】

1、高純鈦靶純鈦靶指純度≥ 99.95%（3N5級） 的鈦濺射靶材，雜質總量≤ 500 ppm，關鍵元素（Fe、O、C等）需精確控制。根據應用需求，純度可提升至 99.999%（5N級），主要用于對薄膜性能要求嚴苛... 【詳情】