噴涂制備金屬靶是利用電弧將靶材材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài)，借助高速氣體將其霧化，形成小的熔滴，并加速噴射到襯管或襯板表面，快速冷卻凝固成金屬涂層靶材的過程。非金屬和陶瓷靶通常是利用等離子加熱粉末材料的方法噴涂制成。靶材熔鑄技術(shù)可分為三種不同的澆鑄形式：無襯管或襯板的整體式甩帶澆鑄、有襯管或襯板的直接澆鑄、分段甩帶澆鑄再粘結(jié)成靶材（Ag等）。
熱噴涂和熔鑄靶材不同的生產(chǎn)過程決定了不同的成本構(gòu)成。熱噴涂靶材的生產(chǎn)成本隨靶材厚度的增加而加大，噴涂靶材可以通過調(diào)整噴涂工藝獲得不同的靶材尺寸，噴涂的時間、消耗的氣體和能量是影響其成本的主要因素。而熔鑄旋轉(zhuǎn)靶材的成本隨厚度變化較小，靶材先熔鑄成型，而后機械加工達到尺寸要求。對于不同尺寸的旋轉(zhuǎn)靶材，其原材料和加工成本基本是固定的。
國外企業(yè)大多使用的是噴涂工藝的旋轉(zhuǎn)陰較靶材，靶材的利用率高，可以到達80%，因而大量節(jié)約鍍膜成本，噴涂旋轉(zhuǎn)靶材在鍍膜行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用。
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